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    第三百八十四章

    目前,发展较好的宽禁带半导体主要是SiC和GaN这两种。

    在燕大的半导体研究中心这,主要研究的宽禁带半导体对象是GaN。

    在GaN基宽禁带半导体领域,该研究中心一直处于国内领先地位。

    注册拥有的和GaN宽禁带半导体有关的发明专利,多达二十多个。

    包括GaN基外延层的大面积、低功率激光剥离方法,铟镓氮单晶薄膜MOCVD外延生长技术等等。

    第三代宽禁带半导体拥有良好的物理化学性能,可应用在诸多的领域。

    而现在,根据第三代半导体的发展情况,其主要应用为半导体照明、电力电子器件、激光器和探测器、以及其他4个领域。

    各个领域产业成熟度各不相同。

    但在前沿研究领域,宽禁带半导体还处于实验室研发阶段。

    目前市面上主流的半导体,还是以第一代半导体和第二代半导体为主。

    其原因嘛……

    当然是第三代宽禁带半导体还有很多技术难题没有攻克。

    燕大的半导体研究所正在进行的工作,就是全力攻克这些难题,早日实现第三代半导体技术的彻底成熟,应用于市场。

    …………

    宽禁带半导体实验室,顾律三人穿着深棕色的实验服,在张主任的带领下走进去。

    实验室的面积很大。

    将近有半个篮球场的大小。

    一眼望去,可以看到实验室内数位研究员在各台仪器前紧张的忙碌着。

    “主任好。”

    “主任好。”

    几位年轻的研究员助理见到张主任进来,客气的打招呼。

    张主任点点头,然后摆摆手,“你们接着忙,接着忙。”

    “我们先去MOCVD那边吧。”张主任压低声音,询问顾律。

    顾律点头一笑。

    张主任带着顾律来到一台一个高的长方形设备面前。

    “这个就是我们实验室的MOCVD了!”张主任拍拍设备外面的铁壳,笑着为顾律介绍。

    顾律上下打量了这台设备一番。

    所谓的MOCVD,是在气相外延生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。

    该设备以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

    上面说的有些复杂。

    简单来理解的话,就是通过这台MOCVD设备,可以将有机化合物和氢化物,合称为实验室所需的GaN宽禁带半导体。

    这是一台生长宽禁带半导体的仪器。

    顾律在国外见过这种设备。

    不过国内和国外的MOCVD系统是有些区别的。

    因为MOCVD系统最关键的问题就是保证材料生长的均匀性和重复性,所以国内和国外MOCVD系统的主要区别在于反应室结构。

    在国外,反应室结构大多采用‘TurboDisc反应’,而国内则是采用‘行星反应’。

    两者各有其优劣,说不上谁更好。

    但呈现在顾律... -->>

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