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“材料研究室现在主要以晶圆为研究对象，以后在整个芯片制造生产中，材料方面的进步进化，都不可能停下脚步，而芯片制造中所需要用到的材料是很多的。这些会逐步都归纳到材料研究室来。”
“这是部门设计与规划的事情，这就不用我操心了吧？”
“现在不是带你参观嘛，后面的研究部门就都跟光刻机相关了，也就是说，目前我们的研究分两大块，一块研究晶圆生产，一块研究光刻机技术。”
整个光刻机进化的历史就是和一个公式里的三个因素有关，这三个因素决定了光刻机的分辨率，分辨率，也就是光刻可以达到的最小尺寸。
当然，这个跟晶圆生产里，单晶硅柱或者说晶圆片不一样，晶圆柱或者晶圆片，那是越大越好，可分辨率却是越小越好。
影响分辨率的第一个因素就是光的波长，波长越小成像越精细，提升成像方面的最有效方法就是使用波长更小的光源。
所以安德科技的第二个研究部门就是激光光合器部，目前世界最先进的是准分子激光器，波长更低的深紫外光准分子激光，然后这个波长的数字已经被降到193纳米，由氟化亚激光器提供，人们在193纳米徘徊了很长时间。
“我们的激光光合器部门，主要就是研究这深紫外准分子激光，希望能在前人的基础上追赶当今世界的脚步，然后再努力超越。”
两人在激光光合器部门口轻声聊着，强哥看着里面忙忙碌碌的工作人员，心中豪气万千，终有一天，我们的部门，我们的企业，我们的国家，一定会制造出世界一流光刻机，最终芯片制造成为经济发展的强大引擎。
来到第三个部门，只见门牌上“折射材料与技术研究部”。
这就是基于分辨率第二因素的研究部门了。
分辨率第二因素就是折射率。
这个因素又跟晶圆一样，越大越好，也就是说，折射率越大，分辨率就越小，分辨率越小，当然光刻机的能力就越大罗。
折射率不是简单用透镜组装一下就能解决，因为光在在折射的时候还会出现很多问题，最终成像会出现相差。啥是相差呢？简单来说就是透镜的成像能力不理想，理想很骨感，现实却很丰满，这个理想中的成像效果和透镜实际能够实现的效果之间的差距就是相差造成相差的原因有很多，简单来说就是平行光线透过球面透镜后不能完全聚焦于一点。
而这就是“折射材料与技术研究部”需要研究和解决的问题。不管你用三个还是五个透镜，也不管你怎么组装，总之无限度降低折射率，那就对了。
第三个因素是工艺因子，说白了就是芯片制作过程中从工艺制造、工艺流程层面来提升分辨率、用什么样的方法来提升分辨率的问题。简单来说目前世界上已经有了的五种工艺技术:
一，多重曝光，多重曝光是最容易理解的一... -->>
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