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台控制了芯片生产中的纹路刻蚀阶段。
而在芯片制造的过程中，并不是经过一次曝光就可以完成的。
是要经过多次曝光处理的。
这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作(每次曝光都要更换不同的掩膜，掩膜与硅晶圆之间每次都要对准操作）。
可芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔。
所以在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内。
一次对准可能相对来说比较容易，但芯片的制造需要多次曝光多次对准。
在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一个需要曝光的区域，想要在多次快速移动中实现纳米级别的对准，这个难度相当大。
可这些问题在王为的超级院士能力（定向）的光辉下，都不再是问题。
“非常完美，精度控制在10埃米（也就是一纳米）以下！”
恍若肩上的重担卸下来是的，王为长长的舒了一口气。
只要再将这个通过专利审核，就可以拿到五天的寿命奖励了。
就在这时，系统的提示音也如期而至。
“叮！短期科研方向：双工作台。”
“完成度：100％！”
“中期科研方向：1nm光刻机。”
“完成度：33.3％！”
“现发布新的短期科研方向：高抛光度物镜镜头！”
“专利审核通过奖励寿命：1天！”
“研究成果获得应用奖励寿命：2天！”
……
接着又是一阵良久的沉默。
然而不在沉默中爆发，就在沉默中消亡！
“好家伙，系统可真有你的啊！”
“奖励没到，先把下一个任务给我送过来了…”
“那些万恶的资本家到你这来的话，说不定都得免费给你做苦力！”
做工不给钱，这是人干的事嘛？
“叮！宿主，这是符合规则的…”
“已经说过必须要有专利及应用才可以得到寿命返还…”
“提前发布短期科研任务也是符合流程的…”
“况且，早得到任务就可以早一些投入研究中不是吗？”
虽然这么一听，系统好像确实是为他着想一样。
可是王为却怎么都不得劲。
众所周知，光刻机三大难点。
分别是双工作台，光源以及镜片。
前身做的工作就是与双工作台有关的，所以耗费的时间少。
大概从一片空白到全部结束，只花费了五个小时的样子。
可接下来的这个1nm光刻机物镜镜头他却毫无头绪。
对于光学领域的高级知识他只了解一点而已。
可以说真的是从零开始。
剩下大约两天半的寿命不一定够。
当然，这只是王为预估计的。
所以保险起见，还是得赶快出去把那已经完成的一天寿命的奖励领到。
这样他才能专心的搞科研工作。
“转换清醒时间！”
随着心念一动，黑暗的系统空间上方突然逐渐白化。
由上到下，就像褪去了一层黑色的外皮一样。
“哎对了，系统，我今天没用完的时间可以余下留到别的时间用吗？”
“叮！一旦拆封，概不退换！”
“倒计时半小时开始！”
“29.59！”
“29.58！”